Chemical Vapor Deposition (journal) — Wikipédia

Chemical Vapor Deposition  
Titre abrégé Chem. Vap. Deposition
CVD
Discipline Chimie
Langue Anglais
Directeur de publication Michael L. Hitchman
Publication
Maison d’édition John Wiley & Sons (Drapeau de l'Allemagne Allemagne)
Période de publication 1995 à aujourd'hui
Facteur d’impact 1,829 (2009)
Fréquence 12 numéros par an
Indexation
ISSN (papier) 0948-1907
ISSN (web) 1521-3862
LCCN 2001227291
CODEN CVDEFX
Liens
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Chemical Vapor Deposition (abrégé en Chem. Vap. Deposition ou CVD) est une revue scientifique à comité de lecture qui publie des articles concernant tous les aspects du dépôt chimique en phase vapeur[1].

D'après le Journal Citation Reports, le facteur d'impact de ce journal était de 1,829 en 2009. L'actuel directeur de publication est Michael L. Hitchman[2].

Références[modifier | modifier le code]

  1. ↑ Ligne éditoriale
  2. ↑ Bureau éditorial

Liens externes[modifier | modifier le code]

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