フォトレジスト（英語：photoresist）とは、フォトリソグラフィにおいて使用される、光や電子線等によって溶解性などの物性が変化する組成物である。物質の表面に塗布され、後に続くエッチングなどの処理から物質表面を保護することから、「レジスト」 (resist)...

集積回路の製造においてフォトリソグラフィは次のように行われる。シリコン、ヒ化ガリウム等の半導体ウェハー上にフォトレジストと呼ばれる感光性有機物質を塗布し、ステッパーと呼ばれる露光装置を用いて、レチクルと呼ばれるフォトマスクに描かれた素子・回路のパターンを焼き付ける。以下、工程をさらに詳しく説明する。...

の情報電子材料に注力し収益を伸ばしている。液晶ディスプレイ（LCD）用材料で世界トップシェアの製品が数種あるほか、半導体関連ではフォトリソグラフィ工程に用いるフォトレジストが世界トップ、シリコンウェハーを加工するCMP（化学機械研磨）工程に用いるCMPスラリー、CMPパッドも新たな収益源に成長しつつ...

要があったが、原盤でダイレクトにプレスできるようになる。このため、エラーが混入する工程を省けた。 原盤の記録層に、金属酸化物レジスト（熱記録）を採用した。従来のフォトレジスト（光記録）と比べ、より精度が高いピットを作成できる効果がある。 邦楽作品第1号は、UNICORNのアルバム『Quarter Century...

程で、配線層や部品層といった異なる画像を写すために、数枚から数十枚のフォトマスクが使用される。露光工程で1枚ごとにフォトレジストと呼ばれる感光性材料にフォトマスクの画像が転写される。露光により現像液への溶解性が変化するフォトレジストの特性に基づき、光の当たった部分が除去される、あるいは残存することに...

レジストという。処理に耐える (resist) 事からこの名がついた。用途や塗り分け（パターニング）方法で幾種類かに分類される。 感光性を持ち、フォトリソグラフィ工程で使用されるレジスト。大量生産される製品に使用されるレジストは、ほとんどがフォトレジスト...

半導体工学分野では、フォトリソグラフィとしてウェハーなどの半導体上の薄膜を形状加工する微細加工技術(マイクロファブリケーション)に応用されている。半導体ウェハー上に酸化膜等の薄膜を形成し、フォトレジストを塗布してパターンを露光した後にエッチングにより不要な薄膜...

フォトレジスト）を塗布して、パターン露光、現像（→フォトリソグラフィ）により、必要な部分のみを残す方法が主流である。エッチング工程の前に穴あけおよびスルーホールめっきを施している場合は、パターンを形成する部分とスルーホールめっきを保護するために両者をレジストで覆う必要があり、これをテンティング法と呼ぶ。...

フォトリソグラフィには、紫外線が使用される。 フォトリソグラフィでは、半導体表面に塗布された、フォトレジストと呼ばれる感光性の樹脂に、フォトマスクと呼ばれるガラス板上に描かれた図形を通して紫外線を照射し、マスク上に書かれた構造をフォトレジスト上に転写する。その後、この様に形成されたレジスト...

フォトダイオード（英: photodiode）は、光検出器として働く半導体のダイオードである。フォトダイオードにはデバイスの検出部に光を取り込むための窓や光ファイバーの接続部が存在している。真空紫外線やX線検出用のフォトダイオードは検出窓が存在しないものもある。 フォトトランジス...

微細加工技術には従来の機械加工技術だけではなく、フォトリソグラフィ、電解加工等が含まれる。 ステッパーによる縮小露光によってフォトレジストを塗布したシリコンウエハー等の材料の表面に露光して、エッチングによって微細な電子回路を形成する。 真空中で電子線によって直接フォトレジスト...