ナノインプリント・リソグラフィが普及すれば生産性が向上し、半導体の製造コストの低減に大きく貢献する事が予想される。 一方、インプリント・リソグラフィには『パーシャルフィールド』という特有の問題もある。 1995年 プリンストン大学Chou らによって熱サイクルナノインプリント...

ナノリソグラフィであり、フォトリソグラフィ、X線リソグラフィ、ディップペン・ナノリソグラフィ、電子線リソグラフィ、ナノインプリント・リソグラフィなどの技法がある。リソグラフィはトップダウンの加工技術であり、大きな素材にナノスケールのパターンを描く。 ナノテクノロジーの別の技法のグループとして、ナノ...

ナノリソグラフィ (Nanolithography) はナノテクノロジーの一分野で原子から約100 nmの規模のナノメートルスケールの構造体やパターンの形成に用いられる。ナノリソグラフィは最先端の半導体集積回路（ナノ電子回路（英語版））やナノ電気機械システム (NEMS) の製造で活用される。...

、集積度の向上やマスク表面に付着した塵が歩留まりに影響を与えるためステッパーによる露光によって置き換えられたが、近年、ステッパーの解像度向上の限界によりナノインプリント リソグラフィによって再登場しつつある。 半導体の製造 MEMSの製造 動圧流体軸受の製造 半導体工学 MEMS フォトリソグラフィ...

収によって成長した企業という背景をもつ。 液浸リソグラフィは1970年代にバーン・ジェン・リン（英語版）によって初めて提案されて以来、ASMLは台湾積体電路製造（TSMC）と協力してきた。2004年、TSMCはASMLの液浸リソグラフィを使用して90ナノメートルプロセス（英語版）の半導体ノード（英語...

ナノトランスファープリンティングは金属を含有するインクの転写によって微細構造を形成する。 微小流体素子 Lab-on-a-chip Micro-TAS MEMS 光導波路 微細加工技術 ナノインプリント・リソグラフィ ナノトランスファープリンティング マイクロコンタクトプリンティング プリンテッド・エレクトロニクス...

極端紫外線リソグラフィ (Extreme ultraviolet lithography、略称：EUVリソグラフィ または EUVL) は、極端紫外線（英語版）、波長13.5 nmにて露光する次世代露光技術である。 EUVLは、2018年から実用化されている露光技術であり、7nmノード以下の露光に使...

ナノテクノロジー ナノマシン NEMS 構造色 メタマテリアル 自己組織化リソグラフィ ナノインプリント・リソグラフィ 微細加工技術 スタンフォード・ロバート・オブシンスキー#オビトロン ^ a b c d “ナノ構造体とは？”. 2016年11月2日閲覧。 ^ “ナノリソグラフィとナノエッチング”...

マイクロコンタクトプリント(mCP)は次世代のプリンテッドエレクトロニクスの基幹技術として期待されるナノ構造構築法の一手法。 1993年にA.Kumar、G.M.Whitesidesによって末端にチオール基（-SH）を有するアルカンチオールを用いて金のマイクロパターニング法が報告されたソフトリソグラフィ...

転写時の位置合わせ(アライメント)の精度が重要だが、柔軟性のある樹脂の転写型の変形等も考慮しなければならず、難易度が高い。 転写時に転写対象に接触するので転写型のコンタミネーションによる汚染の可能性がある。 マイクロコンタクトプリンティング ナノインプリント・リソグラフィ ^ “ナノトランスファープリントの詳細情報”...

自己組織化リソグラフィ（じこそしきかリソグラフィ）(Directed Self-Assembly, DSA)はブロック共重合体の自己組織化現象を利用したナノ構造構築法の一手法で次世代の微細加工技術として期待される。 リソグラフィ技術はこれまでムーアの法則に従って年々、集積度が向上してきたが、近年、...